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超净高纯电子级氢氟酸

英文名：Ultra High Purity Hydrofluoric Acid

Electronic Information Materials

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产品详情

电子式：HF
CASNo：7664-39-3
用途：半导体、太阳能电池制造方面的硅晶片湿法蚀刻以及洗濯，液晶屏等fpd制造工序，水晶振荡器（石英振荡器）的制造工序。
说明：半导体、FPD制造流程越发要求细腻化、高性能化，半导体硅电路板的洗濯在种种加工工序中变得很是主要。氢氟酸具有蚀刻、除去硅氧化膜的特质，因此在半导体硅电路板的洗濯流程中也是不可或缺的细腻加工手艺。由于现在的多段洗濯工序中需要用到稀氢氟酸举行最终洗濯，半导体的湿蚀刻工序对氢氟酸也要求很高的清洁度。洗濯对氢氟酸清洁度要求极高的装备构件也需要用到超高纯度的氢氟酸。

另外，半导体、FPD制造工序，超高纯度药剂不但能去除氧化膜，并且能在抑制粒子附着、晶片外貌的粗糙度等，抵达种种对洗濯性、功效性的要求。为此，我公司一直致力于对种种超高纯度电子化学品举行研发及销售。

包装：加仑瓶，20公斤、25公斤聚乙烯桶，200公斤压力容器，1000公斤IBC桶，20吨TANK罐。

联系人：朱义坤：130-6948-8833

薛栋：188-3907-6907

辛凯明：199-3918-1150

要害词

氟质料

无

电子级硝酸

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huayuzhuangbei@163.com

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河南省焦作市树模区丰收路东段1888号

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超净高纯电子级氢氟酸

产品分类：

电子信息质料

产品形貌

电子式：HF
CASNo：7664-39-3
用途：半导体、太阳能电池制造方面的硅晶片湿法蚀刻以及洗濯，液晶屏等fpd制造工序，水晶振荡器（石英振荡器）的制造工序。
说明：半导体、FPD制造流程越发要求细腻化、高性能化，半导体硅电路板的洗濯在种种加工工序中变得很是主要。氢氟酸具有蚀刻、除去硅氧化膜的特质，因此在半导体硅电路板的洗濯流程中也是不可或缺的细腻加工手艺。由于现在的多段洗濯工序中需要用到稀氢氟酸举行最终洗濯，半导体的湿蚀刻工序对氢氟酸也要求很高的清洁度。洗濯对氢氟酸清洁度要求极高的装备构件也需要用到超高纯度的氢氟酸。
另外，半导体、FPD制造工序，超高纯度药剂不但能去除氧化膜，并且能在抑制粒子附着、晶片外貌的粗糙度等，抵达种种对洗濯性、功效性的要求。为此，我公司一直致力于对种种超高纯度电子化学品举行研发及销售。
包装：加仑瓶，20公斤、25公斤聚乙烯桶，200公斤压力容器，1000公斤IBC桶，20吨TANK罐。
联系人：朱义坤：130-6948-8833
薛栋：188-3907-6907
辛凯明：199-3918-1150